展品侵權是國際展會知識產權侵權問題的核心，目前最為常見的形態(tài)為侵犯專利權、商標權或者著作權的行為。
　　1．專利
　　專利具有專有性，日通過法定程序獲得登記，權利人即享有排他性的專有權。未經其允許，制造、使用、許諾銷售該專利產品或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售依照該專利方法直接獲得的產品即構成侵權。從當前國際展會的實際情況分析，專利侵權在展品所涉知識產權案件中所占的比例最高，仿冒他人享有專利權的產品進行展示的情形相當嚴重，同時，參展商對其享有專利權的產品展示后被仿冒的情形也時常發(fā)生。展會的聚集效應極強，參展企業(yè)據此獲得了一個展現最新技術、推銷最新產品以及塑造行業(yè)形象的最佳平臺。與此同時，在該平臺上展示的個性化
　　展品亦最能吸引仿冒者的眼光，其往往利用參加展會的機會獲取該新穎展品的技術信息之后對其“改頭換面”或者予以直接仿制。因此，如何保護自己的專利產品不被人仿制與假冒，是國際展品知識產權保護的重要問題。
　　2．商標
　　商標的主要功能在于其區(qū)別性，能夠將一企業(yè)的商品或服務與其他企業(yè)的商品或服務區(qū)分開的標記或標記組合才能構成商標，商標經申請并獲得注冊后，商標權人即享有排他性的使用權。任何第三方未經許可而在貿易活動中使用與注冊商標相同或近似的標記去標示相同或類似的商品或服務，可能造成消費者混淆的，即屬于商標侵權。
　　國際展會商標侵權主要表現在參展企業(yè)未經權利人許可展出帶有他人注冊商標的樣品，或使用他人注冊商標對外報價、成交，將客戶提供的不能確定商標歸屬的樣品及非展品在展臺上擺放或用作宣傳。
　　3．著作權
　　著作權系作者對其創(chuàng)作的作品享有的權利，未經著作權人同意，且無法律依據，使用他人作品或行使著作權人專有權的行為即構成侵權。國際展會展品所涉著作權糾紛主要包括展品本身的著作權糾紛，因推銷、演示展品使用圖片、目錄冊等宣傳資料所引發(fā)的著作權糾紛以及使用盜版軟件展示展品引起的軟件著作權糾紛等。